您好,欢迎访问三昆科技LEDUV解胶机厂家!晶圆UV解胶机设备、半导体UV解胶机、芯片UV解胶机、低温UV解胶机、硅片UV解胶机、晶元UV解胶机厂商,生产、销售一站式服务,为您节约成本!

全国咨询热线

153 3889 3007

您的位置:首页 > 产品中心 > UV光固化机 > 正文 >

硅胶表面UV光清洗改质机双波段UV光清洗改质设备SK-025-500LBP

发布时间:2022-07-27 人气:205

硅胶表面UV光清洗改质机双波段UV光清洗改质设备SK-025-500LBP

技术说明:
UV清洗改质利用特定波长的紫外线打断有机物的分子键结使其具有一定的亲水能力,更容易被水清洗。紫外线能使空气中的氧气转化成臭氧,氧化分解有机物一(水一氧化碳二氧化碳)从而达到对物体便面的清洁改质。

产品说明:
传送式UV光清洗机适用中大型基片清洗,如液晶面板,晶圆,ITO导电玻璃,太阳能玻璃,光伏基片,硅晶体,OLED,LCD,硅片,陶瓷,金属片,聚合物,硅胶等表面清洗,用于清洗产品的表面有机物,即进行表面改质,从而获得较好的亲水性。根据客户要求进行设计。

技术参数:
1、UV灯功率:32W/支(双波段清洗灯),灯管寿命3000-5000小时
2、UV灯数量:分二段(每一段:上灯35支、下灯15支,总共:上灯70支、下灯30支)
3、UV波段:185nm、254nm
4、触摸屏人机界面控制
5、UV段采用自动上进风下排风系统
6、整机采用SUS304不锈钢板制作
7、输送滚轮:聚四氟滚轮
8、输送宽度:500mm
9、输送速度:0-5m/min可调节
10、进料入口高度:35mm
11、电源:220VAC 50HZ

客户化方案:
我们可以根据客户的产品尺寸及清洗改质需求进行客户化方案,设计制造合适的UV清洗改质设备。

应用领域:
■在进行薄膜沉积之前先进行基片清洗。清除浮渣和稳定化处理光刻胶。超高真空度密封。
■清洗硅芯片,透镜,反光镜,太阳能面板,冷轧钢,惯性引导零件和GaAs芯片
■清洁焊剂,混合电路以及平板LCD显示器
■蚀刻特氟隆,氟橡胶以及其它有机材料
■增强GaAs 和Si氧化物钝化表面
■增强玻璃的除气作用
■基片蓝膜去除
■增强塑料表面的镀膜的粘附性
■基片终测后墨迹清楚
■去除光刻胶
■平板显示器/液晶显示器
■去除光刻机台上的光刻胶残留物
■在电路板封装和打片之前清洗)
■光纤
■增强表面亲水特性
■为生物科学应用做清洗和消毒
■光学透镜
■其它应用

推荐资讯

153 3889 3007