最高80W大基板紫外曝光系统的高功率UVLED光源
光刻曝光是指利用紫外光源将胶片或其他透明物体上的图像信息转移到涂有光敏材料（光刻胶）表面以得到高精度和极细微图案的一种制作工艺，主要用于半导体生产、高精密集成电路、PCB板制造、MEMS等行业。光刻技术是半导体工业和集成电路是最为核心的制造技术。
半导体光刻行业主要使用的是紫外光源，包括i线（365nm）、h 线 （405 nm） 和 g线 （436 nm）。传统光刻技术中使用的大多数紫外光源是汞放电灯，因为这些光源结构具有较为稳定的输出强度和稳定度。但汞灯的工作寿命短，几个月就必须进行更换，维护成本高；汞灯内含有毒气体，在生产和使用过程中对人体和环境危害大；每次使用前必须进行预热，不能随用随开，并且光能转换率低。这些技术上的缺点成为制约汞灯大规模应用的主要原因。
伴随着十多年来半导体技术以及UVLED的热度，性能